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TJ3/4/5/6英寸硬掩膜激光切割柔性掩膜版非标加工来图来样
华诺激光专*定做掩膜版 mask 金属掩模板 不锈钢掩膜版 ，主要适合于高校、科研所、高科技公司的实验室使用，也适合于工厂批量生产，掩模板可以应用于电子束蒸发，热蒸发，磁控溅射等真空镀膜设备中，用来制备OTFT、OPV、OLED、钙钛矿太阳能电池，光电探测器，场效应晶体管等各种器件图形化薄膜和电极。由于都是定制的产品，具体价格需要发图纸确认后，才能正式报价。
掩膜版的应用
每个芯片上的实际电路结构是用掩模版和光刻技术制作形成的。掩模版是器件或部分器件的物理表示。掩模版上的不透明部分是用紫外线吸收材料制作的。光敏层即光刻胶被预先喷到半导体表面。
掩模和光刻工艺是很关键的，因为他们决定着器件的极限尺寸。除了紫外线，电子束和X射线也能用来对光刻胶进行曝光 。
掩模版的性能直接决定了光刻工艺的质量。在投影式光刻机中，掩模版作为一个光学元件位于会聚透镜（condenser lens）与投影透镜（projection lens）之间，它并不和晶圆有直接接触。掩模版上的图形缩小4~10倍（现代光刻机一般都是缩小4倍）后投射在晶圆表面。为了区别于接触式曝光中使用的掩模版投影式曝光中使用的掩模又称为倍缩式掩模（reticle） 。
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