长期稳定供应各种氮气及其混合气、氩气、氩氢、氩氮、氩保混合气、切割气、高纯氢...
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半导体常用工业气一般包含下面几种：
1、氮气
氮气由于其可用性，是半导体制造过程中各个步骤中使用的核心气体，但它的主要用途是在吹扫阶段。在此阶段，氮气用于冲洗每个通道和管网，以去除机器和工具中的任何氧气、杂质等，从而使它们免受可能出现的污染过程中其他气体、杂质的影响。
2、氩气
氩气主要用于紫外光刻激光器内的沉积和蚀刻过程，用于在半导体芯片上制作小的图案。在制造所需的硅晶片期间，氩气用于保护在晶片上形成的硅晶体在高温生长过程中不会与氧和氮发生任何潜在的反应。因为氩气也是一种非常惰性的气体，它用于为金属溅射沉积提供非反应性环境。有时氮的反应性太强，会导致金属氮化物的形成。此外，液态氩与工具一起用于清洁小、易碎的芯片。
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