掩膜版制备工艺主要采用曝光腐蚀工艺（与光刻法在硅表面制备高精度的图案类似），这种方法可以根据客户要求灵活设计各种图案，且制备出来的图案尺寸标准。我们的图案尺寸精度可以达到0.01mm以上，边缘锐利无毛刺，开孔直线度好，真圆度好。

圆形掩膜板产品特点：
1、低开模费,可以按设计人员的设计要求进行掩膜图形任意更改，成本低
2、能实现金属的半刻，增加公司LOGO，实现品牌化生
3、精密度,高达+/-0.0075mm的精度，满足不同产品的组装要求
4、复杂外形产品同样可以蚀刻，无需额外增加成本
5、没有毛刺，压点，产品不变形,不改变材料性质，不影响产品的功能
6、厚薄材料都可以一样加工，满足不同装配组件的要求
7、几乎所有金属都能被蚀刻，对各种图案设计无限制
8、制造各类机械加工所无法完成的金属部件

 如果客户有自己的圆形掩膜版的样品，可以只考虑做一片上面所示的单片掩膜版就行。如果没有较好的固定器件的方案，建议采用我们的叠层设计法。