该设备采用磁控溅射，膜层致密、细腻、硬度高、光泽好、柔性好。使用HiPIMS电源，成膜速度大幅提高。偏压能有效提高膜层与机体的附着力，提高成膜速率和提高膜层品质。是镀制金属膜、化合物膜以及各种复合膜的理想设备。采用分子泵系统有效防止和解决长时间工作引起的扩散泵返油问题，更好的提高镀膜质量，而且节省电能；平面磁控靶带有靶门方便靶材更换和清洗，粑面配有自动挡板防止交叉污染和镀前洗靶；整机操作方便可靠，可全自动化作业生产，并可储存修改多种生产工艺制程。