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脉冲激光沉积系统 Pioneer 120 Advanced

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  • 品牌:

    Neocera

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    起订1台

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    100台

  • 地址:

    北京

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详情描述

产品简介
Neocera Pioneer 系列 PLD 系统— 基于经验的创新设计,利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得 zui 佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
• 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳米粒子的生成。
• Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的 zui 大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
• 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵,消除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
• 我们的研究表明靶和基片的距离是获得 zui 佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到 zui 优的沉积条件。

技术参数
1、衬底尺寸:10mm x10mm到直径2英寸
2、沉积室:直径12英寸
3、衬底温度:zui 高850°C,辐射加热器,氧兼容
4、多目标传送带:6 × 1英寸或3 × 2英寸
5、质量流量控制器(s):一个MFC氧气是标准的,更多的MFC是可选的
6、软件控制:Windows 7, Labview 2013
7、升级:RHEED, RF-DC溅射/ DC离子源,LAXS, IES,激光加热器

应用领域
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD的独特之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外,PLD是一种“ 数字” 技术,在纳米尺度上进行工艺控制(Å/pulse)。
• Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有丰富的经验
• Pioneer 系列PLD 系统是全球研发领域 zui 为广泛使用的商业化系统
• Neocera 不仅为客户提供 zui 基本的PLD系统,也提供完整的PLD实验室交钥匙方案


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发货 北京预售,付款后90天内
库存 100台起订1台
品牌 Neocera
应用领域 半导体、氧化物薄膜
型号 Pioneer 120 Advanced PLD
品牌 Neocera
过期 长期有效
更新 2023-03-20 14:34
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